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半导体激光划片机

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简单介绍

半导体激光划片机

半导体激光划片机的详细介绍

设备性能 半导体激光划片机采用半导体泵浦激光器,一体化程度更高、光束质量更好、运行成本更低、免维护时间更长; 关键部件均采用进口产品,整机结构简单、划片速度快、精度更高,能24小时长期连续工作。 应用领域 太阳能行业单晶硅、多晶硅、非晶硅带太阳能电池片(cell)和硅片(wafer)的划片(切割切片); 电子行业单晶硅和多晶硅硅片(wafer)的分离切割。 主要技术参数 激光波长 1.064μm 划片精度 ≤±10μm *大划片厚度 1.2mm 划片线宽 ≤30μm 激光重复频率 200Hz~50kHz *大划片速度 200mm/s 激光*大功率 ≥20W 工作台幅面 350×350mm 使用电源 380V(220V)/ 50Hz/ 5kVA 冷却方式 恒温循环水冷 工作台 双气仓负压吸附,T型台双工位交替工作
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